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¿Qué etapas de los semiconductores deben realizarse en una sala limpia?

Creado 2024.06.21
En el proceso de fabricación de semiconductores, varias etapas clave deben llevarse a cabo en un entorno de sala limpia para garantizar la calidad y la integridad de los dispositivos. Estas etapas incluyen:
  1. Fabricación de Wafers
: Esto incluye procesos como fotolitografía, grabado, implantación iónica y deposición de vapor químico. Estos procesos requieren entornos extremadamente limpios para prevenir cualquier contaminación que podría llevar a defectos en las características microscópicas de los chips.
  1. Oxidación y Deposición
: El crecimiento de capas de dióxido de silicio y la deposición de varios materiales sobre la superficie del wafer deben realizarse en una sala limpia para evitar cualquier impureza que pueda afectar las propiedades eléctricas de los materiales.
  1. Planarización Química Mecánica (CMP)
: Este proceso implica suavizar la superficie del wafer utilizando una combinación de fuerzas químicas y mecánicas. Un entorno limpio es esencial para prevenir rayones o contaminación en la superficie del wafer.
  1. Dopaje
: La introducción de impurezas en el semiconductor para cambiar sus propiedades eléctricas es un proceso altamente sensible que debe realizarse en un entorno controlado para lograr niveles de dopaje precisos.
  1. Metalización
: El proceso de aplicar capas de metal al wafer para crear conexiones eléctricas también requiere una sala limpia para evitar que cualquier partícula interfiera con las delgadas películas metálicas.
  1. Ensamblaje y Empaque
: Incluso después de que los chips son fabricados, los procesos de ensamblaje y empaque necesitan entornos limpios para evitar la contaminación que podría afectar el rendimiento y la fiabilidad de los productos semiconductores finales.
Las salas limpias son críticas en la fabricación de semiconductores para mantener la pureza y precisión requeridas para dispositivos semiconductores de alto rendimiento y fiabilidad.
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