En el campo de los semiconductores, una revolución tecnológica impulsada por nuevos materiales avanza a pasos agigantados. El óxido de galio azul profundo, como una "estrella emergente" muy prometedora entre ellos, ha abierto nuevos caminos para la investigación y el desarrollo de dispositivos semiconductores de alto rendimiento con sus excelentes propiedades. Sin embargo, para transformar sus logros de laboratorio en producción industrial a gran escala, es esencial una sala limpia libre de polvo que se adapte a sus características. Guangzhou Kunling Purification Equipment Co., Ltd., que ha estado profundamente involucrada en la industria de la purificación durante muchos años, lo llevará a comprender de manera integral los puntos clave en la construcción de salas limpias libres de polvo para semiconductores de óxido de galio azul profundo hoy.
I. Control Estricto de Niveles de Purificación
El proceso de producción de semiconductores de óxido de galio azul profundo es extremadamente sensible a impurezas como el polvo y los microorganismos. En procesos clave como la fabricación de obleas, la litografía y el grabado, incluso partículas diminutas "mezcladas" pueden causar cortocircuitos en los chips, degradación del rendimiento y una reducción significativa en la tasa de rendimiento. Por lo tanto, el nivel de purificación del taller generalmente necesita alcanzar estándares de Clase 10 o incluso superiores. Esto significa que el número de partículas de polvo con un tamaño de partícula superior a 0,5 micrómetros en cada metro cúbico de aire se controla estrictamente dentro de 10. Guangzhou Kunling adopta tecnologías de filtración de aire líderes a nivel internacional. Desde la filtración primaria para interceptar partículas grandes de polvo, hasta la filtración de eficiencia media para capturar impurezas de tamaño mediano, y luego a través de filtros de aire de partículas de alta eficiencia (HEPA) y filtros de aire de penetración ultrabaja (ULPA) para un "cribado" capa por capa, asegura que el aire que entra al taller esté casi libre de impurezas, sentando una base pura para la producción de precisión.
II. Control Preciso de Temperatura y Humedad
Las propiedades eléctricas y la estabilidad de la estructura cristalina de los materiales semiconductores de óxido de galio varían significativamente bajo diferentes entornos de temperatura y humedad. El rango de temperatura adecuado suele estar entre 22 °C y 25 °C, y la humedad se mantiene entre el 40 % y el 50 % de humedad relativa (HR). El taller está equipado con un sistema inteligente de control de temperatura y humedad. A través de sensores de alta precisión que monitorean los datos ambientales en tiempo real, se conecta con aires acondicionados, humidificadores y deshumidificadores para responder y ajustar rápidamente. Cuando la temperatura se dispara en los calurosos días de verano, el módulo de refrigeración opera eficientemente para enfriar; cuando está seco en invierno, el equipo de humidificación rocía con precisión para aumentar la humedad, creando un "microclima" de temperatura y humedad constantes para mantener los materiales y equipos de óxido de galio en las mejores condiciones de trabajo y reducir el riesgo de desviaciones del proceso.
III. Meticulosas Medidas Antiestáticas
En el procesamiento de semiconductores, la electricidad estática es un "asesino oculto". Los circuitos de los chips de óxido de galio de color azul profundo son finos, y el fenómeno de descarga causado por la electricidad estática puede dañar fácilmente los transistores y los chips. Los materiales del suelo están hechos de PVC antiestático o suelo autonivelante epoxi, con la resistencia superficial estrictamente controlada dentro del rango de 10^6 - 10^9 ohmios para disipar rápidamente la electricidad estática. Los equipos y bancos de trabajo están equipados con eliminadores de estática, y los ventiladores iónicos soplan continuamente iones positivos y negativos para neutralizar las cargas. Los operarios usan ropa de trabajo y cubrezapatos antiestáticos, estando completamente "armados" para eliminar los peligros ocultos de la acumulación y descarga de electricidad estática desde la fuente y proteger la integridad de los productos.
IV. Planificación Científica de la Ventilación y Organización del Flujo de Aire
Una buena ventilación en el taller no solo puede garantizar aire fresco, sino que también ayuda a evacuar los gases residuales del proceso y a disipar el calor para enfriar. Para procesos específicos en la producción de óxido de galio, se adopta una combinación de flujos unidireccionales y formas de distribución de aire de flujo turbulento. En el área de litografía, el flujo unidireccional vertical con una tasa de flujo estable (0,3 - 0,5 metros por segundo) expulsa el polvo con precisión; en áreas como el almacenamiento de materiales y el ensamblaje, se establece una ventilación de flujo turbulento para reemplazar el aire de manera eficiente. Los materiales para los conductos de ventilación se seleccionan teniendo en cuenta la prevención de incendios, la prevención de la oxidación y las bajas tasas de fuga de aire. Los ventiladores se seleccionan con precisión según la escala del taller y la frecuencia de los cambios de aire para garantizar que el volumen y la presión del aire sean adecuados y mantener el flujo ordenado del aire y diluir la concentración de sustancias nocivas.
V. Disposición Apropiada de Equipos de Proceso
El proceso de preparación del óxido de galio azul profundo es complejo, y las máquinas de litografía, las máquinas de grabado, los equipos de deposición química de vapor, etc., varían en tamaño, peso y tienen requisitos especiales para la vibración durante la operación y la disipación de calor. La distribución del taller se adhiere al principio de "flujo de proceso suave y no interferencia entre equipos". Se dividen diferentes áreas funcionales y los equipos pesados se colocan en áreas con buena capacidad de carga y excelente absorción de impactos. Se reservan canales de disipación de calor y se instalan dispositivos de enfriamiento de acuerdo con las curvas de disipación de calor de los equipos. Los intervalos entre equipos adyacentes son razonables para facilitar el mantenimiento, la operación y la depuración, permitiendo una vinculación eficiente de los equipos y la producción estable de productos semiconductores de alta calidad.
VI. Gestión y Capacitación de Personal Mejoradas
Las personas son un factor clave en la operación del taller, pero también son una fuente potencial de contaminación. El personal que ingresa a la sala limpia libre de polvo para el óxido de galio de color azul profundo debe pasar por un estricto proceso de vestimenta, desde la eliminación de polvo en la ducha de aire hasta el uso de ropa protectora estéril, mascarillas y guantes, capa por capa para su limpieza. Se imparte capacitación profesional regularmente para fortalecer el conocimiento de los empleados sobre los procesos de semiconductores, las normas de operación en salas limpias y la capacidad de responder a emergencias. A los nuevos empleados se les brinda orientación práctica por parte de colegas experimentados para dominar los detalles del manejo de materiales y la operación de equipos, reduciendo la probabilidad de contaminación y daños del producto causados por errores humanos.
La construcción de salas limpias libres de polvo para semiconductores de óxido de galio de color azul profundo representa tanto un desafío como una oportunidad. Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. se basa en su rica experiencia en proyectos, su equipo técnico profesional y sus productos de purificación de alta calidad para personalizar soluciones integrales durante todo el proceso. Desde la planificación preliminar, la construcción hasta la operación y el mantenimiento posteriores, realizaremos esfuerzos precisos para ayudar a las empresas a apoderarse de la vanguardia en la industria del óxido de galio de color azul profundo. Si está planificando un proyecto de taller de este tipo o tiene preguntas sobre los detalles de construcción, no dude en contactarnos de inmediato y trabajemos juntos para crear un nuevo modelo de fabricación de semiconductores limpios.