No campo dos semicondutores, uma revolução tecnológica impulsionada por novos materiais está avançando. O óxido de gálio azul profundo, como uma "estrela em ascensão" altamente promissora entre eles, abriu novos caminhos para a pesquisa e desenvolvimento de dispositivos semicondutores de alto desempenho com suas excelentes propriedades. No entanto, para transformá-lo de conquistas de laboratório em produção industrial em larga escala, uma sala limpa livre de poeira que se adapte às suas características é essencial. A Guangzhou Kunling Purification Equipment Co., Ltd., que está profundamente envolvida na indústria de purificação há muitos anos, irá levá-lo a compreender de forma abrangente os pontos-chave na construção de salas limpas livres de poeira para semicondutores de óxido de gálio azul profundo hoje.
I. Controle Rigoroso dos Níveis de Purificação
O processo de produção de semicondutores de óxido de gálio azul profundo é extremamente sensível a impurezas como poeira e microrganismos. Em processos chave como fabricação de wafers, litografia e gravação, mesmo partículas minúsculas "misturadas" podem causar curtos-circuitos em chips, degradação de desempenho e uma redução significativa na taxa de rendimento. Portanto, o nível de purificação da oficina geralmente precisa atingir padrões Classe 10 ou até mais elevados. Isso significa que o número de partículas de poeira com tamanho superior a 0,5 micrômetros em cada metro cúbico de ar é estritamente controlado em 10. A Guangzhou Kunling adota tecnologias de filtragem de ar líderes internacionais. Desde a filtragem primária para interceptar grandes partículas de poeira, passando pela filtragem de média eficiência para capturar impurezas de tamanho médio, e depois através de filtros de ar de partículas de alta eficiência (HEPA) e filtros de ar de ultra baixa penetração (ULPA) para uma "triagem" camada por camada, garante que o ar que entra na oficina esteja quase livre de impurezas, estabelecendo uma base pura para a produção de precisão.
II. Controle Preciso de Temperatura e Umidade
As propriedades elétricas e a estabilidade da estrutura cristalina de materiais semicondutores de óxido de gálio variam significativamente sob diferentes ambientes de temperatura e umidade. A faixa de temperatura adequada é geralmente mantida entre 22 °C e 25 °C, e a umidade é mantida em 40% - 50% de umidade relativa (UR). A oficina está equipada com um sistema inteligente de controle de temperatura e umidade. Através de sensores de alta precisão que monitoram dados ambientais em tempo real, ele se conecta a aparelhos de ar condicionado, umidificadores e desumidificadores para responder e ajustar rapidamente. Quando a temperatura sobe em dias quentes de verão, o módulo de refrigeração opera eficientemente para resfriar; quando está seco no inverno, o equipamento de umidificação pulveriza com precisão para aumentar a umidade, criando um "microclima" de temperatura e umidade constantes para manter os materiais e equipamentos de óxido de gálio nas melhores condições de trabalho e reduzir o risco de desvios de processo.
III. Medidas Antiestáticas Meticulosas
No processamento de semicondutores, a eletricidade estática é um "assassino oculto". Os circuitos dos chips de óxido de gálio "deep blue" são finos, e o fenômeno de descarga causado pela eletricidade estática pode facilmente romper transistores e danificar chips. Os materiais do piso são feitos de PVC antiestático ou piso autonivelante epóxi, com a resistência superficial estritamente controlada na faixa de 10^6 - 10^9 ohms para dissipar rapidamente a eletricidade estática. Equipamentos e bancadas de trabalho são equipados com eliminadores de estática, e ventiladores iônicos sopram continuamente íons positivos e negativos para neutralizar cargas. Operadores usam roupas de trabalho e capas de sapato antiestáticas, estando totalmente "armados" para eliminar os perigos ocultos do acúmulo e descarga de eletricidade estática na fonte e proteger a integridade dos produtos.
IV. Planejamento Científico da Ventilação e Organização do Fluxo de Ar
Uma boa ventilação na oficina não só garante ar fresco, mas também ajuda a exaurir gases residuais do processo e dissipar calor para arrefecimento. Para processos específicos na produção de óxido de gálio, adota-se uma combinação de fluxos unidirecionais e formas de distribuição de ar turbulento. Na área de litografia, o fluxo unidirecional vertical com uma taxa de fluxo estável (0,3 - 0,5 metros por segundo) remove a poeira com precisão; em áreas como armazenamento de materiais e montagem, a ventilação por fluxo turbulento é configurada para substituir o ar de forma eficiente. Os materiais para os dutos de ventilação são selecionados considerando a prevenção de incêndio, prevenção de ferrugem e baixas taxas de vazamento de ar. Os ventiladores são selecionados com precisão de acordo com a escala da oficina e a frequência de trocas de ar para garantir que o volume de ar e a pressão do ar sejam adequados e mantenham o fluxo ordenado do ar e diluam a concentração de substâncias nocivas.
V. Disposição Adequada dos Equipamentos de Processo
O processo de preparação do óxido de gálio azul profundo é complexo, e máquinas de litografia, máquinas de gravação, equipamentos de deposição química em fase vapor, etc., variam em tamanho, peso e têm requisitos especiais para vibração durante a operação e dissipação de calor. O layout da oficina adere ao princípio de "fluxo de processo suave e não interferência entre equipamentos". Diferentes áreas funcionais são divididas, e equipamentos pesados são colocados em áreas com boa capacidade de carga e excelente absorção de choque. Canais de dissipação de calor são reservados e dispositivos de resfriamento são instalados de acordo com as curvas de dissipação de calor dos equipamentos. Os intervalos entre equipamentos adjacentes são razoáveis para facilitar a manutenção, operação e depuração, permitindo a ligação eficiente de equipamentos e a produção estável de produtos semicondutores de alta qualidade.
VI. Gestão e Treinamento de Pessoal Aprimorados
As pessoas são um fator chave na operação da oficina, mas também são uma fonte potencial de poluição. O pessoal que entra na sala limpa livre de poeira para óxido de gálio azul profundo precisa passar por um rigoroso processo de vestimenta, desde a remoção de poeira no chuveiro de ar até o uso de roupas de proteção estéreis, máscaras e luvas, camada por camada para limpeza. Treinamentos profissionais são realizados regularmente para fortalecer o conhecimento dos funcionários sobre processos de semicondutores, normas de operação em salas limpas e a capacidade de responder a emergências. Novos funcionários recebem orientação prática de colegas experientes para dominar os detalhes do manuseio de materiais e operação de equipamentos, reduzindo a probabilidade de contaminação e danos ao produto causados por erros humanos.
A construção de salas limpas sem poeira para semicondutores de óxido de gálio azul profundo é um desafio e uma oportunidade. A Guangzhou Cleanroom Construction Co., Ltd. conta com sua rica experiência em projetos, equipe técnica profissional e produtos de purificação de alta qualidade para personalizar soluções completas em todo o processo. Desde o planejamento preliminar, construção até a operação e manutenção posteriores, faremos esforços precisos para ajudar as empresas a conquistar o ponto alto na indústria de óxido de gálio azul profundo. Se você está planejando um projeto de oficina desse tipo ou tem dúvidas sobre os detalhes da construção, sinta-se à vontade para nos contatar imediatamente e trabalharmos juntos para criar um novo modelo de fabricação de semicondutores limpos.